一、結構簡介

碳納米膜制備設備如圖所示，由氣體質量流量計控制系統(tǒng)、液體注液系統(tǒng)、多段溫度可控多區(qū)生長系統(tǒng)、水冷卻系統(tǒng)、碳納米線或膜收集系統(tǒng)，紅外烘干系統(tǒng)等組成。生長爐的最高溫度1400℃，并可在0-1400℃之間連續(xù)可調，垂直式分布熱場，三點控溫(三段長度平均分配)，設備頂部設有注液口、導流器。爐體采用雙層殼體結構并帶有風冷系統(tǒng)，保溫材料為加厚型，殼體表面溫度小于60℃。采用高純氧化鋁管作為爐膛材料，加熱元件為優(yōu)質硅碳棒。本款碳納米管或膜CVD設備可以實現(xiàn)連續(xù)生長不間斷的特點。

二、性能參數(shù)